【干膜曝光能量多少格合適】
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干膜曝光能量6-8格合適 。干膜是相對濕膜而言的，是一種高分子材料，它通過紫外線的照射后能夠產生一種聚合反應 ， 形成一種穩定的物質附著于板面，從而達到阻擋電鍍和蝕刻的功能 。干膜是制作印刷電路板的重要耗材，廣泛應用于微電子行業和電路板制造行業 。干膜曝光一段時間后，經顯影，光致抗蝕層已全部或大部分聚合，并具有技術條件所要求的抗蝕性能，該時間稱為最短曝光時間或最小曝光量 。將曝光時間繼續延長，使光致抗蝕劑聚合得更徹底，且能正常顯影 ， 顯影后得到的圖文尺寸仍與照相底版尺寸相符，顯影后的抗蝕層滿足技術條件要求的抗蝕性能及附著性能，該時間稱為最大曝光時間或最大曝光量 。
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